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  • 实验室专用原子层沉积设备 Savannah100,200,300
实验室专用原子层沉积设备 Savannah100,200,300

实验室专用原子层沉积设备 Savannah100,200,300

  • 用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。应用领域:芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、5G通讯(SAW器件)、生物医学仿生、荧光材料、OLED显示、有机材料、电子电路、光学膜等。

产品详情

用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。

  • 应用领域:

芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、5G通讯(SAW器件)、生物医学仿生、荧光材料、OLED显示、有机材料、电子电路、光学膜等,细分及对应膜层如下:

-High-K介电材料(Al2O3,HfO2,ZrO2,PrAlO,Ta2O5,La2O3)

-导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN)

-金属互联结构 (Cu WN,TaN,Ru,Ir)

-催化材料 (Pt,Ir,Fe,Co,TiO2,V2O5)

-纳米结构 (All ALD Material)

-生物医学涂层 (TiN,ZrN,TiAlN,AlTiN)

-金属 (Ru,Pd,Ir,Pt,Rh,Co,Cu,Fe,Ni)

-压电层 (ZnO,AlN,ZnS)

-透明电学导体 (ZnO:Al,ITO)

-紫外阻挡层 (ZnO,TiO2)

-光子晶体 (ZnO,ZnS:Mn,TiO2,Ta3N5)

-防反射滤光(Al2O3,ZnS,SnO2,Ta2O5)

-电致发光器件(SrS:Cu,ZnS:Mn,ZnS:Tb,SrS:Ce)

-工艺层如蚀刻栅栏、离子扩散栅栏等 (Al2O3,ZrO2)

-光学应用如太阳能电池、激光器、光学涂层、纳米光子等 (AlTiO,SnO2,ZnO)

-传感器 (SnO2,Ta2O5)

-磨损润滑剂、腐蚀阻挡层 (Al2O3,ZrO2,WS2)

-OLED钝化层 (Al2O3)

  • 功能特点:

    -采用热法和等离子法制备原子层纳米级薄膜

    -一个循环周期小于2秒钟

    -可以沉积有机高分子材料,实现表面亲疏水性

    -可以在纳米粉末或纳米颗粒上沉积薄膜

    -可以在三维、不规则体、带有长深孔(深宽比2500:1)样品上沉积薄膜

    -可以沉积低饱和蒸汽压材料

    -可增加在线椭偏仪和QCM检测

    -可增加等离子体装置

    -可扩展臭氧产生器

    -可集成手套箱设备

    -可增加Load-lock自动上下载片装置

  • 可沉积膜层:

    氧化物

    氮化物

    硫化物

    金属/碲化物

  • 实验室专用原子层沉积设备 Savannah100,200,300(图1)